新规落地｜新版《集成电路布图设计保护条例》发布，保护芯片创新知识产权

新规落地｜新版《集成电路布图设计保护条例》发布，保护芯片创新知识产权

New Regulations on Protection of Layout-Designs of Integrated Circuits Issued to Strengthen IP Protection for Chip Innovation

近日，国务院公布修订后的《集成电路布图设计保护条例》（国令第842号），这是该条例自2001年实施以来***系统性修订，法规共6章54条，将于2026年10月15日正式施行。新规立足我国集成电路产业发展现实，拓展保护边界、优化确权流程、强化侵权惩戒，为芯片设计领域创新成果搭建更完善的法治保障体系。

修订最受行业关注的突破，是拓宽保护客体范围。条例明确，集成光子、量子等功能的集成电路布图设计，可依法纳入保护范畴。伴随后摩尔时代到来，光子芯片、量子芯片等新型器件加速产业化，原有法规仅聚焦传统电子集成电路的局限被打破，前瞻性解决新兴芯片架构的确权难题，匹配前沿技术研发需求。

确权登记制度迎来全面优化。新规要求登记申请必须基于真实创作，严禁虚假申报；新增独创性声明材料要求，申请人需清晰标注设计独创区域与技术要点。条例增设第三方请求撤销登记机制，任何人发现登记存在违法情形均可提出撤销申请，同时完善期限延误后的权利恢复通道，兼顾审查严谨性与市场主体程序权益。条例再次明确核心规则：布图设计专有权自登记之日产生，未经登记无法获得法规保护；保护期限10年，最长不超过创作完成起15年。

在权利保护与侵权追责层面，新规引入惩罚性赔偿规则。针对故意侵权且情节严重的行为，赔偿数额可在基础损失数额1—5倍区间确定，同时包含维权产生的合理开支，大幅提升侵权成本。法规厘清善意销售免责边界，完善非自愿许可、权利用尽、科研豁免等制度，平衡权利人专有权益与行业技术借鉴、基础研发需求。

针对成果转化，条例细化权属分配规则，明确合作创作、委托创作布图设计的权利归属标准；规范专有权转让、许可、出质登记备案流程，细化共有权利人行使规则。同时规定单位主持完成的布图设计，应当依照法律法规给予研发人员合理奖励报酬，打通创新激励链条。

集成电路布图设计是芯片产业的核心智力成果。新版条例兼顾传统芯片与光子、量子集成电路创新需求，构建起覆盖确权、保护、运用全链条的规则体系。广大芯片设计企业、研发团队应当尽快熟悉新规要求，及时开展布图设计登记，用好知识产权制度防范仿制侵权风险。随着条例落地实施，我国集成电路领域创新生态将持续完善，助力产业高质量发展。

参考资料(2026年08月05日综述整理)

[1] 中华人民共和国国务院. 集成电路布图设计保护条例（国令第842号）[EB/OL].中国政府网,2026-07-23.

[2] 司法部、***知识产权局负责人就修订《集成电路布图设计保护条例》答记者问[EB/OL].***知识产权局官网,2026-08-03.